AFM5500M是操作性和測量精度大幅提高，配備4英寸自動馬達臺的全自動型原子力顯微鏡。設備在懸臂更換，激光對中，測試參數設置等環節上提供全自動操作平臺。新開發的高精度掃描器和低噪音3軸感應器使測量精度大幅提高。并且，通過SEM-AFM共享坐標樣品臺可輕松實現同一視野的相互觀察分析。

日立高新離子研磨裝置IM4000具有斷面加工和平面研磨功能的混合儀器！其高通量能提高加工效率：與之前的E-3500型相比，采用新型離子槍設計，減少了橫截面研磨時間。（大加工率：硅元素為300微米/小時--加工時間減少了66%。

日立高新磁控濺射器MC1000采用了電磁管電極，能夠大限度地減輕對樣品的損壞，并在樣品表面涂覆一層均勻粒子。適用于高分辨率的掃描式電子顯微鏡。