日立高新離子研磨裝置IM4000具有斷面加工和平面研磨功能的混合儀器！其高通量能提高加工效率：與之前的E-3500型相比，采用新型離子槍設計，減少了橫截面研磨時間。（大加工率：硅元素為300微米/小時--加工時間減少了66%。

日立高新磁控濺射器MC1000采用了電磁管電極，能夠大限度地減輕對樣品的損壞，并在樣品表面涂覆一層均勻粒子。適用于高分辨率的掃描式電子顯微鏡。